1.研磨拋光機的特點及應用MP-2型金相試樣研磨拋光機配有雙盤,可以兩種不同速度完成研磨或拋光。左盤(預磨盤)的轉速為450轉/分,右盤(拋光盤)的轉速為600轉/分。採用雙盤和不同的磨拋光材料,可實現粗磨、精磨、粗拋光和精拋光的過程。該機操作簡便,使用經濟。是工廠、科研院所、高校實驗室理想的標本製備儀器。2.主要規格:模型MP-2磨盤直徑230毫米拋光盤直徑200毫米磨盤轉速450 rpm(左)600 rpm(右)可訂購發動機YC7124 370 W尺寸700 × 600 × 278毫米重量50公斤工作電壓交流220伏,50赫茲